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1月12日消息，尽管日本在euv光刻机领域落后于asml，但在euv技术生态中仍占据关键地位，尤其在euv光刻胶、euv光罩等核心材料环节优势显著。 目前三星所用的EUV光罩几乎完全依赖日本进口，主力供应商为Hoya（豪雅）与AGC（前身为旭硝子），这两家拥有深厚光学与精密玻璃制造积淀的企业，长期稳居全球EUV光罩供应第一梯队。 然而，自2019年日本对韩实施三大半导体关键材料出口管制以来，韩国企业加速推进核心技术自主化。如今，这一战略已在EUV光罩领域迎来实质性突破。 近年来，三星持续联合韩国本土企业S&S科技攻关EUV光罩技术。最新进展显示，双方合作已取得关键性成果，联合验证工作已进入收尾阶段，预计将于今年第二季度正式开启量产供货。 鉴于EUV光刻系统高度复杂、成本高昂，三星不会采取“一刀切”式切换，而是采用渐进策略：先小批量导入国产光罩用于非核心层或验证产线，待良率与稳定性全面达标后，再分阶段扩大应用范围。 业内普遍预期，SK海力士也将同步加快对韩国国产EUV光罩的评估与导入节奏，推动整个韩系存储供应链的本地化适配。  VWO 一个A/B测试工具 下载但需客观指出，韩国在EUV上游材料领域的国产替代进程并非一帆风顺。早在六年前，韩媒就曾高调宣称“已实现EUV光刻胶国产化”，实则彼时仅是日企通过海外子公司渠道间接供货，规避出口管制——三星、SK海力士至今仍严重依赖日本厂商的EUV光刻胶供应。 究其原因，一方面在于EUV材料研发门槛极高，涉及超纯化学、纳米级感光响应、电子束写入兼容性等多重技术壁垒；另一方面也受限于市场体量——全球EUV光罩年市场规模仅约3亿美元，其中三星采购额预估不足1亿美元（约占三分之一），甚至可能低于其单年度研发投入。 反观中国市场，情况则大不相同：对EUV及DUV全系列光刻材料与设备的需求规模远超韩国，替代窗口更广、时间更紧、政策与资本推力更强，产业化落地潜力更为可观。
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